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襯體加熱平臺

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主要用途：用于加熱晶圓襯體；
一次性可加熱12pcs產品；
加熱溫度室溫~200度可設。
上一個： 晶圓加熱載臺
下一個： 自動晶圓計數機/COUNT機/自動芯粒計數機
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